|
22.03.2024 - Цена: договорная Гарантийный срок 12 (мес)
Производитель ООО "ОПТОВАК"
Страна производитель РБ
Вакуумная установка ВУ-2М предназначена для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия.
Вакуумная установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопроводящих и других оптических покрытий для области спектра, ограниченной длинами волн в диапазоне 250-1100м/м.
Откачка камеры до начала проведения процесса напыления может производиться в ручном и автоматическом режимах.
В автоматический режим, кроме получения рабочего давления, включена ионная очистка деталей и нагрев деталей до заданной температуры с вращением арматуры.
Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 28 0 С, относительной влажности от 40 до 75% и атмосферном давлении 8, 4 х10 4 – 10, 6х10 4 Па (630-800 мм рт. Ст).
Вакуумная установка состоит:
- откачной пост (с высоковакуумными средствами откачки);
- агрегат форвакуумный АВР-60;
- комплекс фотометрического контроля толщины СФКТ-751В;
- стойка управления. Технические характеристики
1. Давление в камере Па (мм рт. Ст.) 6х10 -4 (45х10 -7 )
2. Время достижения давления в камере без прогрева при рабочем режиме диффузионного насоса и при охлаждении жидким азотом криопанели и ловушек с начала откачки воздуха из камеры, мин., не более 30
3. Количество испарителей, шт 3
электронно-лучевых (ЭЛИ) 2
резистивных 1
4. Максимальная мощность ЭЛИ, кВт 6
5. Внутренний диаметр камеры, мм 700
6. Макс. Масса подложек, устанавливаемых на арматуре, кг не более 10
7. Максимальная температура нагрева оптических деталей, 0 С 320
8. Частота вращения арматуры с -1 (об/мин) 0, 1-1 (6-60)
9. Мощность, потребляемая вакуумной установкой, кВт, не более 30
10. Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой, м 2 не более 6
11. Масса установки, кг 1970
|
